赫爾納貿易（大連）有限公司

ParteQ產品介紹

ParteQ GmbH 提供一系列用于生成固體納米顆粒和液滴的系統，包括從霧化和蒸發/冷凝到火焰到熱壁合成的各種工藝。利用化學氣相沉積法進行粉末功能化是我們另一個重點。對于粉末和氣溶膠的表征，我們還提供廣泛的顆粒測量技術及系統。關于納米粉末的收集我們提供專門的過濾系統及過濾測試系統，以分析過濾介質和濾芯的效率。

一、納米顆粒和納米分體的合成制備

ParteQ 提供基于火焰、熱壁和火花技術的納米顆粒制備合成系統。

Parteq GmbH開發可擴展的氣相合成系統，用于生成功能化納米顆粒，用作功能材料的基礎。我們的模塊化合成平臺能夠生產多種不同的結構，從單金屬顆粒、精確合金金屬納米顆粒到純氧化物和異核殼結構納米顆粒。生產規?？煽蛻舻男枨蟆?/span>

1. 火焰噴霧合成：氧化物納米材料、磷酸鹽和金屬

ParteQ提供火焰噴霧熱解（FSP）反應器，用于納米顆粒合成，從交鑰匙實驗室規模的FSP系統到具有kg/h規模的中試裝置。我們還提供納米顆粒生產和開發服務。

火焰噴霧熱解（FSP）是一種多功能且低成本效益的納米顆粒生產工藝。取決于含有金屬或過渡金屬化合物的液體原料在高達3000°C的溫度下燃燒，納米顆粒在幾毫秒內形成，并在過濾器上以干粉的形式收集。FSP工藝受益于短的工藝鏈，只需一步即可制備復雜的納米顆粒

制備產品是納米粉體，FSP通常用于生產高結晶氧化物的納米粉末，但也用于合成了磷酸鹽和純金屬。產品包括單組分和多組分氧化物納米顆粒以及氧化物載體上的貴金屬簇。對于某些組合物，可以制造表面包覆或基質嵌入的納米顆粒。典型的粒徑范圍為 10 至 50 nm，具體取決于工藝條件。

火焰噴霧熱解FSP制備納米粒的應用包括：

w 催化劑

w 電池材料

w 陶瓷

w 顏料

w 牙科和生物醫學材料

w 氣體傳感器

w 聚合物納米復合材料

w 電陶瓷

臺式納米顆粒合成系統NPS-20---基于火焰噴霧熱解技術的交鑰匙系統

NPS-20是一種交鑰匙臺式火焰噴霧熱解裝置，用于研究和早期產品開發水平的納米顆粒合成。NPS-20設計用于快速篩選FSP合成中可用的材料成分和工藝條件的多個參數，以加速納米材料的開發

NPS-20可以放置在實驗室工作臺上，也可以根據要求與移動機架一起交付。系統都須放置在化學通風柜或類似的封閉和通風區域才能操作。

臺式納米顆粒合成系統NPS-20 主要特點

w 實驗室規模的火焰噴涂反應器

w 低脈動注射泵，用于精確進料液體驅動。

w 4 個質量流量控制器，用于輸送工藝氣體：分散氧氣、支持火焰甲烷和氧氣以及可選的護套氣體。

w 自動火焰點火系統。

w 火焰探測器。

w 集成微處理器和電子板，用于過程控制。

w 通過 RS 232 控制軟件和通信。

w 玻璃纖維過濾器和干式旋片真空泵，用于收集產品粉末。

w 用于監控過濾器狀態的壓力和溫度表。

從實驗室到中試規模的納米顆粒系統系統-基于FSP 的納米顆粒制備技術

實驗室規模的FSP反應器以高達50 g / h的速度生產納米粉末，而且實現了生產能力高達5 kg/h的全自動FSP中試設備。這些裝置根據客戶的要求量身定制，并作為交鑰匙系統交付。通過PLC過程控制，中試工廠配備了24/7全天候運行，允許納米粉末的小規模工業生產。

2. 熱壁合成-氧化物和負載金屬

流動式熱壁反應器中納米顆粒的合成

納米級顆粒的合成可以在火焰反應器中合成，也可以在熱壁系統中合成。由于氣體成分可自由選擇，氧化敏感材料也觸手可及。

熱壁合成納米材料的原理：所需顆粒材料的前驅體材料被轉移到氣相中，并在熱壁反應器中分解和氧化。高度分散結構形成具有高比表面積。通過選擇工藝參數，可以改變表面粗糙度、分形結構和粒徑。球形顆粒可以通過在高溫下聚結獲得。根據所選擇的材料，可以合成均勻混合的氧化物納米顆?；蚝藲そY構納米顆粒。

3. 火花合成：金屬納米顆粒 DNP 3000

火花合成可實現石墨和金屬納米顆粒的無前體合成

從石墨、銀 （Ag）、金 （Au）、銅 （Cu） 等生成納米級測試氣溶膠。通過冷凝;載氣：氮氣 或氬氣

4. 灼熱絲納米粒子發生器-金屬納米粒子

用于高濃度下尺寸范圍低于 10 nm 的金屬顆粒的顆粒發生器

GWG產生具有可調粒徑分布和濃度的穩定Pt氣溶膠，是實驗室實驗和儀器校準的理想選擇。

可以使用氮氣或氬氣進行操作。外殼是真空密封的，由不銹鋼制成，帶有標準的真空法蘭連接器。用于電線電氣連接的電極隔離在PTFE中。提供世偉洛克連接器，用于氣體和氣溶膠管路的 6 或 8 mm 卡套管。具有 0-10 A 和 0-10V 輸出的電源，輸入 50Hz 240 V 用于加熱用于產生顆粒的電線。氣溶膠輸出是受控于電流變化，電流可以很好地控制粒度分布。

二、納米粉末的功能化-

通過通過化學氣相沉積（CVD）對顆粒進行功能化

用于顆粒功能化的ParteQ工藝基于通過化學氣相沉積（CVD）對金屬或氧化物進行涂層。該工藝能夠對結構特征進行控制，例如支撐顆粒的尺寸和表面紋理以及支撐金屬顆粒的尺寸和數量密度或氧化物殼的厚度。我們可以生成各種各樣的納米結構，從簡單混合氧化物到核殼結構以及Janus顆粒。

我們的流化床反應器可加熱至200°C，允許熱CVD工藝。它們是真空密封的，因此可以在反應氣氛下操作，并用于處理空氣或濕度敏感系統。ParteQ提供從實驗室規模（例如WSR50）到中試規模（例如WSR160）的完整系統，包括母離子加樣和固體處理。

三、納米粒子和氣溶膠測量儀器

用于表征氣溶膠和納米粉末的儀器

我們提供廣泛的儀器，用于氣溶膠表征、細粉塵監測以及氣溶膠的生成測試和過濾器測試。產品包括納米顆粒測量系統，氣溶膠光譜儀，細粉塵的監測，氣溶膠監測儀，稀釋系統，在線顆粒測量

四、納米顆粒過濾-納米粉末收集

納米級氣溶膠的沉積需要專門的設備，因為與傳統的過濾系統相比，有關密封性和效率的規格要求要高得多。 除此之外，ParteQ還提供適用于測試過濾介質和過濾單元的過濾測試臺。

開發了一種可擴展的過濾系統，用于產品氣溶膠的沉積。該系統非常靈活，可適應您的工藝要求。

采用真空密封法蘭連接可以排除過程中的氧氣。電解拋光表面可以改變納米粉末的處理。手動或自動過濾器再生是可選的，CIP系統的實施也是可選的。過濾器可耐受高達 200°C 的工作溫度。

ParteQ產品應用領域

ParteQ 產品用于材料開發，包括儲能，光電化學，燃料電池，和健康領域的藥品的緩控釋，抗生素表面功能化，電子學和機械工程用于3D 打印材料的開發，以及用于環境，包括納米顆粒測量系統，細粉塵的監測等。